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스텝퍼 Stepper

시설장비등록번호
NFEC-2019-01-248482
제작사명 모델명
Nikon NSR-2005i10c
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 부산테크노파크 파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • ○ Wafer size : 150mm (6inch) ○ Exposure Power: 600mW/cm2 이상 ○ Illumination Uniformity: ±2.0% 이내 ○ Intergrated Exposure Stability: ±1.0% 이내 ○ Wafer Holder Flatness: 3.0μm 이내 (Max.-Min.) ○ Chip Leveling Accuracy:　3초 이내 ○ Reticle Blind Setting Accuracy: +0.4 ~ +0.8mm (on reticle) ○ Reticle Rotation: Absolute value ±0.02μm 이하 ○ Reticle Rotation Repeatability: 0.02μm 이하 ○ Stepping Precision: ±0.06μm 이하 (3σ) ○ Overlay Accuracy: IMI+3σ≤0.09μm(LSA), IMI+3σ≤0.09μm(FIA) ○ Lens Distortion: ±0.06μm 이하 (Magnification Error 포함) ○ Wafer Loading Test: 100회 이상

  • 구성 및 성능

    • 반도체 포토(Photo)공정에 사용되는 설비로 Wafer 표면에 고집도 미세회로를 생성하기 위하여 사용되며, Reticle의 상이 일정한 비율로 축소되어 투영되는 방식으로 SiC MOSFET과 같은 패턴의 크기가 1μm이하 이거나 같 패턴의 모형이 계속 반복될 경우 Reticle과 PR 용액이 도포된 Wafer와의 거리를 일정하게 조절하여 이동하면서 복적으로 노광을 실시하는 장비이다.
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