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장비현황

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건식 식각기(Metal) Dry Etcher Metal

시설장비등록번호
NFEC-2019-01-248436
제작사명 모델명
Lam Research TCP-9600PTX
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 파크파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • ○ Wafer size : 150mm (6inch) ○ ESC Wafer Chuck ­ - wafer 350 ㎛(t) ○ Full automatic System ○ EPD(End Point Detector) ○ Metal Etcher ­ - 1 Chamber (Process & Vacuum Loadlock) 시스템 ­ - Wafer Transfer: Robot Auto Transfer System ­ - 금속 식각 및 Doped-Poly 용 Chamber ­ - ESC Clamp type ­ - Gas: BCl3, Cl2, N2, O2, CF4, Ar, H2O 중 선택 ­ - RF Generator: 13.56Mhz, TCP 600W 이하, Bias 4300W 이하 ­ - Etch Rate: 7000Ả/min 이상 @ Al ­ - Uniformity: 5% (Wafer to Wafer) 이하 ○ Oxide Etcher ­ - Wafer Transfer: Robot Auto Transfer System ­ - 산화막 식각용 1 Chamber ­ - ESC Clamp type ­ - Gas: Ar, CF4, He, N2, O2, CHF3 중 선택 ­ - Etch Rate: 3000Ả/min 이상 @ TEOS SiO2 ­ - Uniformity: 5% (Wafer to Wafer) 이하

  • 구성 및 성능

    • 금속 건식식각기는 반응성 가스를 이용하여 플라즈마 상태에서 웨이퍼에 설계된 미세 선폭의 금속을 식각하는 장비로 탄화규소(SiC) 전용 공정에 사용되어지고, 웨이퍼를 이송하는 자동 반송시스템과 진공챔버, 플라즈마 발생장치, 가스공급 및 배기시스템, 식각후 웨이퍼세정 그리고 모든 것을 자동으로 운전할 수 있는 PC를 갖추고 데이터를 저장기능이 있다.
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