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Wet 스테이션 Wet station

시설장비등록번호
NFEC-2019-01-248435
제작사명 모델명
(주)울텍 aquachem-c
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • ○ Wafer size : 150mm ○ Type : All Cassette Type, 25wafer/cst ○ CST transfer Robot ○ 자동세척 공정 ­ Loader → BOE → QDR → SC-1 → HQDR → SC-2 → HQDR → F/R → IPA Dryer → Unloader

  • 구성 및 성능

    • 반도체 제조 공정 중 Wafer 표면의 무기물, 유기물, Particle, 금속이온 및 자연 산화막 등 각각의 오염 물질들을 효과적으로 제거하기 위해 여러가지 세정 용액을 혼합하여 세정하는 설비이다.
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