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후면스퍼트 Back Side Sputter

시설장비등록번호
NFEC-2020-04-262070
제작사명 모델명
주식회사 엘에이티 2inch Gun Magnetron Sputtering System
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • 1) Main Chamber & Frame 1 ea 2) Process Stations 4 ea 3) Entry / Exit Chamber & Frame 2 ea 4) 12inch Magnetron Cathode 4 ea 5) 5KW DC Power Supplies 4 ea 6) Vacuum Gauge Controller 1 set 7) Gas Controller 1 set 8) Control Rack 1 set 9) HMI/System Controller 1 set 10) Solenoid Valve Assy 1 set 11) Sample Hoder 50ea 12) Turbo Pump and Controller 2 set 13) Cryo Pump With Compressor 1 set 14) spare Shields 1 KIT(process kit) 1 set 15) 25 Slot Cassette 16) Dry Pump 2 ea 기본적인 금속 및 산화물 박막 제조공정인 Sputtering 공정에 활용이 가능하며 25ea Cassette를 이용한 준 양산형 증착이 가능한 System으로 Substrate Jig의 활용을 통한 6inch, 4inch 기판의 증착도 가능하다.

  • 구성 및 성능

    • 150um, SiC Wafer의 후면에 금속박막을 증착하기 위한 Inline Sputtering System으로 25ea의 Wafer를 장입하여 순차적으로 다층 금속 박막을 증착가능한 장비입니다. Sample을 장입하고 증착 후 Exit Chamber로의 이송까지 전자동화 기능을 포함하고 있습니다.
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