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장비현황

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씨디샘 CD-SEM

시설장비등록번호
NFEC-2020-04-262072
제작사명 모델명
Hitachi S-8820
표준분류
광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • ○ Wafer 관련 ­ - Wafer Size: 150mm SiC(투명) - ­ Loading / Unloading: Automation ○ Accelerating Voltage: 0.1~1.3kV ○ Resolution: 5nm at 0.8kV ○ Magnification: × 100 (Optical micorscope) × 500 ~ 150,000 (SEM mode) ○ Measurement range: 1~10μm ○ Measurement Repeatability: ±1% or 5nm ○ Stage Movement: X=150mm, Y=150mm ○ Throughput: 20 wafers/hr ­ - 5point/wafer measurement, Continuos operation mode ○ SiC 파워반도체 소자의 패턴이 고 집적화 될수록 포토작업에서 가장 중요한 기술의 하나로 패턴의 선폭을 확인하는 기술을 구현하기 위한 측정 장비로 씨디샘(CD-SEM)이 많이 사용됨 ○ SiC MOSFET 제작 공정 중 포토 공정 선폭 확인을 위하여 사용하고, 각종 파장의 빛 및 Particle의 차단을 위하여, Auto로 공정을 진행하는 장비 ­ SiC MOSFET등의 제작을 위한 포토 공정 후 선폭 확인 공정에 사용

  • 구성 및 성능

    • ○ SiC MOSFET등의 소자 제작 공정 중 포토 공정을 진행 후 선폭 확인을 위한 핵심장비로 Wafer 표면에 고집적 미세 회로를 생성하기 위하여 감광액(PR, Photoresist)이 도포된 Wafer에 패턴 형성 후 공정 결과를 확인 하는 장비
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