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고온어닐링 High Temperature anneal

시설장비등록번호
NFEC-2019-02-254372
제작사명 모델명
TOYOKO KAGAKU Ailesic-2000
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 퍼니스

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : (재)부산테크노파크 파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • ○ Wafer size: ~150mm ○ Batch: 25 wafers/batch ○ Auto Wafer Loader ○ Wafer Load Ports: 2 Carrier stages (1 for Product, 1 for Reference& Dummy) ­ 온도 측정: Thermocouple ○ Heating System: Metal Heater ­ Single zone temperature control ○ Cooling System: Cooling water circulation ○ Temperature Uniformity: 1900℃±５℃ ○ Max process time: 1900℃　≦３０min ○ Temperature Repeatability: ≦±2℃ ○ Productivity: 6.98 wafers/hr ○ Vacuum/Exhaust System ­ Vacuum Pump, Pressure sensor, Oxygen concentration meter

  • 구성 및 성능

    • 고온어닐링기는 탄화규소(SiC) 전용장비로써, 최대 2,100도 열처리가 가능한 장비이다. ○ 핵심 성능: 최대가열온도 2,000℃, 분당 승온 속도 50℃ 이상 ­ 회당 처리가능 웨이퍼 수량 10매 이상 ­ 처리가능 웨이퍼 규격 : ~ 150mm (6inch)
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