장비현황
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듀얼집속이온빔장치 Dual Focused ION Bea System

- 시설장비등록번호
- NFEC-2013-11-183990
- 제작사명 모델명
- TESCAN, sro 모델명없음
- 표준분류
- 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)
설치장소 : 부산테크노파크 기계부품소재기술지원센터
장비문의 : 051-974-9154
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장비설명
- - 배율 : × 4 ~ × 1000000 - 에칭속도 : 10um/57sec(Si) - 성분분석 : Be(4) ~ U(92) - 표면형상 : × 4 ~ × 50000
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구성 및 성능
- - FIB/FE-SEM/XRF-EDS/3D-MeX - Schottky Field Emission Gun - GIS(Gas Injection System) Nanorobotic Manipulator - Resolution : 1.2nm(SEI) 2.0nm(BEI) 5.0nm(FIB)