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장비현황

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듀얼집속이온빔장치 Dual Focused ION Bea System

시설장비등록번호
NFEC-2013-11-183990
제작사명 모델명
TESCAN, sro 모델명없음
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 부산테크노파크 기계부품소재기술지원센터

장비문의 : 051-974-9154

  • 장비설명

    • - 배율 : × 4 ~ × 1000000 - 에칭속도 : 10um/57sec(Si) - 성분분석 : Be(4) ~ U(92) - 표면형상 : × 4 ~ × 50000
  • 구성 및 성능

    • - FIB/FE-SEM/XRF-EDS/3D-MeX - Schottky Field Emission Gun - GIS(Gas Injection System) Nanorobotic Manipulator - Resolution : 1.2nm(SEI) 2.0nm(BEI) 5.0nm(FIB)