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장비현황

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Wet 스테이션(산화막) wet station

시설장비등록번호
NFEC-2019-01-248441
제작사명 모델명
(주)울텍 AQUACHEM-E
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • ­○ Loading, Unloading을 제외한 Wafer 이동이 Auto로 이루어지는 장비로 본체와 별도의 Main Control PC 그리고 Chemical 공급은 LCSS로 구성되며, 본체에 투명 Cover를 부착하여 전체 System 내부의 진행 상태 및 Piping Unit 내부의 Trouble 상황을 확인 - Loader → H2SO4 #1 → H2SO4 #2 → H-QDR #1 → BOE → HF → H-QDR #2 → Unloader

  • 구성 및 성능

    • 본 장비는 반도체 Wafer 제조 공정 중 Wafer 표면의 산화막을 효과적으로 제거하기 위해 여러가지 세정 용액을 혼합하여 세정하는 설비이다. 6” Wafer 1-Cassette (25sheet/Cassette)를 처리할 수 있는 Bath 구조이며, 각각의 Process 공정 Bath를 횡렬 배치하여 CST Transfer Robot으로 공정을 진행하는 Semi Auto 장비이다. 주요 Bath구성은 H2SO4, 산화막 식각용 BOE, DHF Bath, Hot QDR,Over Flow(OFR)로 되어있다.
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