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장비현황

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마이크로스코프 Micro Scope

시설장비등록번호
NFEC-2019-01-248475
제작사명 모델명
Olympus DSX510-ASU
표준분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 광학검사기

※ 정보출처 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr, T.1670-0925)

설치장소 : 파워반도체상용화센터

  • 장비설명

    • ◦구성 : 메인바디, 스테이지, 컨트롤 박스, 대물렌즈 및 컴퓨터 등 ◦관찰모드 : 다양한 관찰법(BF, DF, MIX, DIC, POL등) 지원 ◦조명장치 : 빌트인구조로 명시야, 암시야 관찰 가능 ◦대물렌즈 : 3개 이상 - 2.5X, 10X 및 50X ◦최대배율 : 5,000X 이상 ◦이미지 분석 - 카메라 센서 : 2.1메가 픽셀 이상 - 프레임속도 : 15fps 이상 ◦스테이지 : 100X100mm ◦이미지소프트웨어 : 장비 통합 제어 할 수 있는 이미징 프로그램 및 다양한 분석 이미지 3D 이미지 구현 등 분석 및 측정 가능 ◦시스템 구동용 컴퓨터 및 모니터 ◦진동방지를 위한 제진대 및 spot light 포함
  • 구성 및 성능

    • 본 장비는 반도체 웨이퍼 기판위에 형성된 미세패턴을 고배율로 측정 및 분석하기 위한 장비임. 3차원 입체적인 현미경 영상으로 이미지를 분석하거나, DIC관찰모드를 통해 시료 표면의 거칠기등을 측정 및 분석하기 매우 적합하며, 특히 소자 제작 공정 과정에서 공정 전후의 이상 유무를 확인하는 용도로 사용되며, 소자 공정에서 필수적인 장비로서 핵심 단위공정 연구에 활용됨